유리 코팅을 위한 고순도 티타늄 스퍼터링 타깃 CNC 선반 표면

고순도 티타늄 타겟 티타늄 스퍼터링 타깃

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티타늄 스퍼터링 타깃은 주로 집적 회로, 정보 스토리지, 액정 화면, 레이저 메모리와 전자 조절 장치와 같은 전자적이고 정보 산업에서 사용됩니다. 그들은 또한 유리 코팅의 분야에서 사용될 수 있습니다. 그것은 또한 내마모 물질, 고온 내부식, 고급적 장식적 제품과 다른 산업에서 사용될 수 있습니다.

고청정도, 고밀도 티타늄 스퍼터링 타깃 :

티타늄 스퍼터 표적 (순도 : 99.9% -99.999%)

마그네트론 스퍼터링 코팅은 물리적 증착 방법의 신형입니다. 증기 침전 도포 방법에 비해 많은 명백한 장점이 있습니다. 개발된 상대적으로 발달한 기술로서, 자전관 스퍼터링은 많은 분야에 적용되었습니다. 티타늄 스퍼터링 타깃
스퍼터링 기술 티타늄 스퍼터링 타깃

스퍼터링은 박막 물질을 제조하기 위한 선도 기술 중 하나입니다. 이온 소스에 의해 발생된 이온은 이온과 단단한 표면 원자 사이에 단단한 표면과 충돌하고 운동 에너지를 교환하면서, 빠른 에너지 이온 빔을 형성하기 위한 진공에서 가속되고 모이는데 사용됩니다. 단단한 것의 표면적으로 원자는 고체를 남기고, 기판의 표면에 침적됩니다. 꽉 채워진 고체는 스퍼터링법에 의해 맡겨진 얇은 필름으로 준비하기 위한 원료이고 스퍼터 표적을 불렀습니다. 여러가지 유형의 분산된 박막 물질은 넓게 반도체 집적 회로, 광기전, 기록매체, 평면 디스플레이 장치와 가공품 표면 코팅에서 사용됩니다.

다양한 코팅 목표를 처리하는 것 :

금속 타겟 : 텅스텐 타겟, 몰리브덴 목표, 탄탈륨 타겟, 니오븀 목표, 지르코늄 타겟, 코발트 타겟, 바나듐 타겟, 구리 타겟, 백금 타겟, 하프늄 타겟, 니오븀 목표, 알루미늄 타겟, 철 타겟, 크로미움 타겟, 티타늄-니오브 합금 타겟, 티타늄 지르코늄 합금 타겟, 티타늄과 텅스턴 합금 타겟, 티타늄 GUI 합금 타겟, 티타늄-알루미늄 목표, 니켈 카드뮴 합금 타겟, 알루미늄 크로뮴 합금 타겟, 고청정도 티타늄 타겟, 초고순도 티타늄 타겟, 고청정도 니켈 타겟, 고청정도 탄탈륨 타겟, 폴리실리콘 목적 물질, 초순도 알루미늄 타겟, (99.95%-99.999%),

분류 : 멀티 아크 이온 코팅 목표, 티타늄 평평한 목표, 티타늄 회전 튜브 목표, 티타늄 목표 배면 전극, 티타늄 목표 후방 튜브

사용 : 도구 코팅, 장식적인 코팅, 전자 산업, 평판 디스플레이 산업, 큰 영역 낮-e 유리 코팅, 반도체, LCD, 태양에너지 산업, 광학렌즈, 광전자 산업, 요업 결합 타겟, 분무 목표물, 등.