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티타늄 스퍼터링 타겟

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티타늄 스퍼터링 타겟

(63)

High-purity and high-density titanium sputtering target Titanium thin film material
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Titanium target High-purity and high-density sputtering targets include: Sputtering target (purity: 99.9%-99.999%) Titanium target plate High-purity ... 자세히보기

2022-01-17 14:06:50

Titanium target plate grade 1 High-purity titanium target gr.1 Sputtering
접촉

Titanium target High-purity and high-density sputtering targets include: Sputtering target (purity: 99.9%-99.999%) Titanium target plate Titanium ... 자세히보기

2022-01-17 14:06:50

99.99% High Purity Titanium Target Titanium Round Target Strip Target sputtering target
접촉

티타늄 타겟 고청정도와 고밀도 스퍼터 표적은 다음을 포함합니다 :말 많은 목표 (순도 : 99.9%-99.999%)박막 물질, 반도체 집적 회로, 태양광 발전, 기록 매체, 평면 디스플레이와 제조 공정에 있는 제품의 표면 코팅법을 스퍼터링시키면서, 액정 화면, 레이저 ... 자세히보기

2022-01-17 13:55:38

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